半导体制程工艺的不断进步，精度的不断提高，不仅仅是制程设备的精益求精，对于洁净室中存在的气态分子污染物（AMC）的监测和管控的要求也越来越高。任何漂浮在空气中的污染物沉积在晶圆表面，都会影响工艺降低良品率。由于制程的众多复杂步骤，导致PPT级的污染物都会较大程度的影响晶圆良品率。
面对日益精进的制程工艺，AMC监测技术也在不断升级，瑞零科技推出的全新一代AMC在线监测系统，将内部与外部污染源实时监控，极高灵敏度和浓度报警机制，能及时反馈给厂务端，从而控制好污染物释放，保证良品率。
气态分子污染物（Airborne molecular contaminant，AMC）包含：酸类（MA）、碱类（MB）、可凝结物质（MC）和掺杂物质（MD），随着制程尺寸越来越小，工艺复杂度和步骤不断增加的大前提下，洁净室内的AMC数目和类别也会持续增加。一套灵敏度高，监测速率快，监测点位多的整套系统就必不可少。
瑞零科技将致力于AMC在线监测系统的持续精进，在制程工艺的过程中，瑞零科技不断深耕，即将研发出过程附着AMC监测及清洁设备，将大大降低工艺过程污染，提升良品率。
